CY3.5 DISE，花氰活性染料CY3.5 DISE的表面能模块化

CY3.5 DISE是一种基于CY3.5荧光染料的功能化衍生物，通常以四磺酸（Tetra SO3）形式存在，使染料分子高度亲水并带负电荷。CY3.5为绿色偏橙光荧光染料，吸收峰约在550 nm，发射峰约在570–580 nm，量子产率高、光稳定性良好。通过DISE（双异硫氰酸酯）或类似活性基团，CY3.5 DISE可与表面羟基或氨基官能化材料进行共价偶联，实现荧光标记和表面功能化。

TETRA SO3体现使氧分子在水相中散不均、非特男人吸附物低，于在动物体系中和納米技术文件表面能做实时控制记号。该纺织染料能作于荧光示踪、納米技术颗粒肥料或脂质猪体面能体现，并且 制剂递送装置和动物三维成像利用。2. 无机化学组合成特征

1. CY3.5荧光核心
   CY3.5分子核心由多环共轭体系组成，保证在可见光区域的吸收和发射能力。平面共轭结构使染料具有高量子产率和光稳定性，即使在化学偶联或表面修饰后，荧光性能仍然保持稳定。

2. TETRA SO3四磺酸修饰
   四磺酸基团赋予分子高度亲水性和负电荷，使其在水相或缓冲液中分散性良好，减少染料分子聚集或非特异性吸附。负电荷也有助于在表面功能化中形成静电排斥，控制分子在材料表面分布。

3. DISE活性基团
   DISE基团为双异硫氰酸酯，能够与材料表面的氨基或羟基进行共价反应，形成稳定的酰胺或硫脲键。该反应高效、温和，并保证荧光染料牢固附着于表面，适合用于纳米颗粒、微球、脂质体或聚合物表面功能化。

3. 外壁工作化不可逆性

1. 共价偶联
   DISE活性基团的异硫氰酸酯碳原子为亲电中心，表面氨基或羟基为亲核基团。在缓冲液中，亲核进攻碳原子，形成稳定的共价键。该过程在室温至37℃下进行，反应时间通常为数小时，以保证偶联效率和染料稳定性。

2. 表面分布控制
   四磺酸修饰提供静电排斥，防止染料在表面过度堆积或聚集，实现均匀标记。通过调节染料浓度、反应时间和pH，可精确控制表面覆盖率和荧光强度。

3. 两亲性兼容性
   CY3.5 DISE兼具疏水荧光核心与亲水四磺酸基团，使其在水相和材料表面均能稳定分散，为纳米颗粒和脂质体系的表面功能化提供操作性和可控性。

4. 漆层基本功能化应该用

1. 纳米颗粒表面标记
   通过DISE共价偶联，CY3.5 DISE可将荧光信号固定在金属纳米颗粒、聚合物微球或脂质体表面，实现可视化追踪和定量分析。

2. 载体示踪与成像
   标记后的纳米载体可在体外或体内实验中进行荧光示踪，观察载体摄取、分布及释放情况，为药物递送系统和分子示踪提供可靠信号。

3. 生物兼容性与分散性
   四磺酸修饰提高水溶性和生物兼容性，降低非特异性结合，保证在细胞实验及体内应用中信号稳定、可重复。

4. 多通道荧光实验
   CY3.5发射与其他荧光探针（如Cy5或FITC）光谱区分明显，可用于多通道实验，实现同时追踪多个分子或材料的表面标记。

产品名称：CY3.5 DISE

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