制备了具有不同外周取代基的酰胺桥钴酞菁配合物，所得染料呈深绿色。通过元素分析、吸收光谱、红外光谱、质谱和电化学方法对这些酞菁配合物进行了表征。

检测询问此类大分子的格局-材质密切关系的电普通机械材质。

因此，在玻碳电极(GCE)表面形成了均匀的酰胺酞菁(Pc)络合物薄膜，扫描电镜(SEM)图像显示大环在玻碳电极(GCE)表面均匀分布。

进行电物理抗阻谱(EIS)学习了绘制参比电极的欧姆/法拉第外观加载失败。

用Hammett参数设置表述了所代替酞菁的Co(II)/(I)脱色展现攻击行为。

将末梢酰胺桥接Co-N4大环协调一致物呈现电级外面使用于对苯二酚(QH2)的感应器。

视图详细了解结构的和官能团对电催化剂的作用渗透性的反应。

嵌套循环伏安法(CV)现示，在200 ~ 2200 nM的降钙素原检测时间范围内内，QH2的直流电**曾加，检测出限(LOD)为65 nM。与另一团伙不同之处，在GCE/CoTAMFCAPc工业片上，QH2在170 ~ 1530 nM时间范围内内包括很好的直线出错，LOD为56 nM。所制得的GCE/CoTAMFCAPc工业片对包括类同架构的团伙与QH2并存时包括好的不稳性和选用性。

GCE/CoTAMFCAPc电极片该用于实际情况软件，具备着较高的QH2收售率。

太多推存：

cas:150485-60-2|5,9,14,18,23,27,32,36-八丁氧基-2,3-萘酞菁钯 (II)

cas:757940-49-1|1,4,8,11,15,18,22,25-八丁氧基-29H,31H-酞菁磷(IV)

四叔丁基酞菁硅水合物|CAS号: 85214-70-6

二空气氧化硅覆盖菁染色剂壳核型nm粒状

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