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酞菁|用于柔性电子应用的酞菁氯化铟(III)非晶膜的简易沉积
发布时间:2022-01-06     作者:酞菁   分享到:

在聚乙酸酯超材料衬底上沉淀了有差异规格的酞菁氯化铟塑料膜,充当那种新的光纤皮秒激光切割机的限定和皮秒激光滤光片应用领域。

用x电子束衍射研究方案了PcInCl保护膜的晶状体形式,在50 ~ 140 nm的不一薄厚下,PcInCl保护膜包括非晶态结构。

对各种壁厚(平滑和非平滑)PcInCl透气膜的光纤激光切割机的质地做了算和座谈会。

映射比率为2.7 eV,能隙为1.36 eV。

预估的非线形反射率和非线形三阶磁化率在10 ~ 10esu范围图内。

PcInCl贴膜具备有较高的激光行业手术光限幅性,有的是种很有出路的激光行业手术滤光产品。

许多推存:

cas:150485-60-2|5,9,14,18,23,27,32,36-八丁氧基-2,3-萘酞菁钯 (II)

cas:757940-49-1|1,4,8,11,15,18,22,25-八丁氧基-29H,31H-酞菁磷(IV)

四叔丁基酞菁硅水合物|CAS号: 85214-70-6

二氧化的硅包裹菁颜料壳核型微米颗粒肥料

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