含4-戊基苯基乙炔所代替基的钴、锰、锌酞菁新积极配合物的结合。

利用Sonogashira偶联响应收获4-[(4-戊基苯基)乙基]邻苯腈。

用太阳光的紫外线-屏蔽光谱仪仪、红外光谱仪仪、核磁共鸣氢谱、核磁共鸣13C谱和质谱对新类化合物采取了定量分析。

为了让分析中心的黑色合金材料水分子对元件能的印象，准备并表现了外面有带[(4-戊基苯基)乙炔基的四结合在一起黑色合金材料酞菁光敏场调节作用氯化钠晶体管。

光電分析方法结杲表示，几丁质酶层为3的集成电路芯片具备最低的光電特性，**场因素变更率(4.27 ×10-3 cm2/Vs)、光敏度(72.05)、光暗工作电流比(230)。

得知Pc单质的光電稳定性依赖于于核心五金共价键，这与UV紫外线-可看见光谱分析一直。

用共价键力体视显微镜对感知膜的单单从表面形貌做了阐述。

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