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不同氟化程度的氟化黑磷量子点的环境稳定性测试与电子兼容性介绍
发布时间:2021-04-27     作者:axc   分享到:

量子点具有独特的量子局域和边界效应。近年来,一类新型的量子点——二维材料衍生量子点——受到越来越多的关注。与传统的有机荧光团和半导体量子点相比,二维材料衍生量子点具有稳定性好、毒性低等优点,其中黑磷量子点具有独特的宽带吸收和蓝、绿发光特性,在光热**、生物成像、超快光子学等领域表现出理想的应用效果。然而,黑磷量子点与黑磷烯一样存在环境不稳定的缺点,并且能级结构中普遍存在的陷阱态对电子跃迁和发光特性具有**的阻碍作用。

我们提出了一种通过氟化同时提高黑磷量子点环境稳定性和消除电子陷阱态的策略。氟化黑磷量子点通过一种基于离子液体电解液的电化学剥离与同步氟化实验的方法一步得到,

氟化黑磷量子点的环境稳定性测试如图1所示,其氟化稳定机理被认为是氟吸附原子对磷原子的孤对电子具有强吸引作用,阻断了磷与外界氧之间的电荷转移和反应路径,同时氟原子也对氧和水具有排斥作用。

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实践查重得知,逐渐电解法液中氟源溶度的增多,所提炼出的氟化黑磷量子点的氟化系数(氟磷氧氧分子数之比)也伴伴随增多,实现0.68日后渐趋保持稳固,取决于黑磷只有较低的氟化本事。**性机制来计算取决于(图2),逐渐氟吸氧氧分子的增多,氟化黑磷量子点的构造从的严重塑性形变到晶格错位和断键,到被氟腐蚀不锈钢分解成,良好 地定义了实践毕竟,与此同时也蕴含了氟化互调节黑磷量子点学习环境保持稳固性和供热公司学保持稳固性期间的主要矛盾。

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进一点思考了氟化对黑磷量子点雷区图片态的政策调控意义所在。**性机理计算表面,氟化黑磷量子点能隙中的雷区图片态会随氟化程度上呈现出有規律的消退。当吸收的氟電子层使磷電子层的配五五数字区间范围于3或 5时(图3中的P84F12和P84F48),氟化黑磷量子点中電子的总药剂学的记量比不够足,使HOMO和LUMO是深能级陷于带隙,所产生電子局域态,妨碍電子从基态到激活态的跃迁。等等局域态集中在在配五五数字区间范围于3或 5的未氟化周围磷電子层处,表面雷区图片态为黑磷量子点的主要物理攻击,氟化无法建立雷区图片态。而当吸收的氟電子层使磷電子层的配五五数字乘以3或 5时(图3中的P84F24、P84F40、P84F64),氟化黑磷量子点中電子总药剂学的记量比取得能够要求,HOMO和LUMO是集身姿,電子局域消退,電子跃迁、有关的的变色、输运特性将取得**的激发。最终表面,氟化弊病可**削除黑磷量子点中的雷区图片态,即黑磷量子点对氟弊病都含有電子兼容性问题,对构建黑磷量子点基变色和生态学电子束学电子器件研究方向都含有主要的预期意义所在。

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