CTAB模板介孔硅技术(CTAB-Templated Mesoporous Silica Technology)的合成步骤
CTAB模板介孔硅技术(CTAB-Templated Mesoporous Silica Technology)
CTAB(十六烷基三甲基溴化铵)是常用阳离子表面活性剂,可作为软模板合成介孔硅材料,如MCM-41和SBA-15。
合成步骤:
模具剂溶解完:CTAB易溶是碱性的水饱和溶液(如NaOH或NH₄OH调准pH至10-11);硅源假如:在CTAB胶束体系中中迟缓中滴加硅源(如TEOS,四乙氧基硅烷);电离缩合:TEOS在碱性食物必要条件下发文件生电离缩合,在CTAB模板图片牵引下行成秩序井然硅氧网咯;的老化与固化型:一般是在80–100°C下想法24个小时;我们要除表格模板:凭借煅烧(550°C)或醇/磷化处理法移除CTAB,收获介孔机构。材料特征:
口径宏观调控:一样为2–10 nm,可可以通过加入到助手微信小程序模板剂(如TMB)放大口径;比表面上积:500–1200 m²/g;充分孔道构造:表现出六方对应顺序排列。应用方向:
口服药缓凝膜蛋白;废金属納米微粒质粒;催化氧化剂撑起、素材;荧光测试探针装封管理体系。
产地:西安pg电子娱乐游戏app 生物
用途:科研
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