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CTAB模板介孔硅技术(CTAB-Templated Mesoporous Silica Technology)的合成步骤
发布时间:2025-07-09     作者:zhn   分享到:

CTAB模板介孔硅技术(CTAB-Templated Mesoporous Silica Technology)

CTAB(十六烷基三甲基溴化铵)是常用阳离子表面活性剂,可作为软模板合成介孔硅材料,如MCM-41和SBA-15。


合成步骤

文档模板剂可溶性高,溶水水的:CTAB溶水碱性食物水溶剂(如NaOH或NH₄OH调准pH至10-11);硅源倒入:在CTAB胶束标准中较慢中滴加硅源(如TEOS,四乙氧基硅烷);蛋白质水解反应缩合:TEOS在偏碱水平印发生蛋白质水解反应缩合,在CTAB摸版引流下养成制度化硅氧线上;光老化与干固:一般在80–100°C下响应24小时候;出掉模板免费:根据煅烧(550°C)或醇/钝化处理法移除CTAB,领取介孔组成。


材料特征:

钻孔大小改善:般为2–10 nm,可在建立捕助设计剂(如TMB)缩小钻孔大小;比外面积:500–1200 m²/g;有条不紊孔道空间结构:产生 六方轴对称排列成。


应用方向:

药物剂量控释媒介;金属材料纳米技术颗粒质粒载体;崔化剂作为支撑的材料;荧光电极芯片封装体系建设。


 CTAB模板介孔硅技术

产地:西安pg电子娱乐游戏app 生物

用途:科研 

以上资料由pg电子娱乐游戏app 生物小编zhn提供,仅用于科研 

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