CTAB模板介孔硅技术（CTAB-Templated Mesoporous Silica Technology）

CTAB（十六烷基三甲基溴化铵）是常用阳离子表面活性剂，可作为软模板合成介孔硅材料，如MCM-41和SBA-15。

合成步骤：

模版剂降解：CTAB易溶于碱性食物水盐溶液（如NaOH或NH₄OH调理pH至10-11）；硅源加进：在CTAB胶束网络体系中较慢中滴加硅源（如TEOS，四乙氧基硅烷）；溶解缩合：TEOS在强碱必要条件下发文件生溶解缩合，在CTAB模具加以引导下形成了秩序硅氧系统；衰老与凝固：大多数在80–100°C下体现24时间；祛除文档模板：在煅烧（550°C）或醇/磷化处理法移除CTAB，可以获得介孔成分。

材料特征：

孔直径政策调控：普遍为2–10 nm，可按照建立引导网站模板剂（如TMB）扩充孔直径；比外面积：500–1200 m²/g；合理孔道架构：展现出六方等势面布局。

应用方向：

药物剂量缓控的载体；金属质nm阿尔法粒子形式；离子液体剂支柱建筑材料；荧光探头封口指标体系。

 

产地：西安pg电子娱乐游戏app 生物

用途：科研 

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