多面体低聚倍半硅氧烷(polyhedraloligosils-esquioxane,POSS)构成图甲1所显示,它由无机硅氧笼型结构特征和外膜的无机基团R搭建,R为改善相匹配性与增溶的功效的设计基团,X为含下有个或多可通过缔合发应的活力基团。有机肥料三聚氰胺树脂杂化构成让 POSS的热能学和化工物理性质都达到强化,还具有顺畅的热比较稳判定、较高的有机玻璃化转变成水温、顺畅的室内空间比较稳判定和机能力，非常易实用功能化体现，将其当做核,产生体型相对较大的侧基后,可应用于准备光刻胶板材。包含POSS基团的光刻胶，涂料抗蚀刻性比较强。

POSS光刻胶的常见业务类型

固化剂POSS光刻胶

将树脂环己基连结到POSS上(下图2提示)，化学合成好几回种负性光刻胶,添加光产酸剂( photoacid generator,PAG),应用抵触光刻技巧，经两束光的波长为532 nm的涉及光吹捧后,固化剂基团.

受酸崔化之后发生交连症状,经后烘、定影等全过程，取得了甄别率有300 nm、深宽之比10的组合图形,到底期间如图已知3随时

甲基丙稀酸酯-POSS光刻胶

甲基亚克力酯类整合物而致良好的的通透性,常被充当193 nm光刻胶涂料，而POSS基团在193nm处找不到吸取,那么的学术研究将POSS基团接入使用到甲基水性聚氨酯酯的共聚物中,以从而提高光刻胶的耐蚀刻性,

重氮酮-POSS光刻胶

一款非物理化学变幅型的正性光刻胶-重氮酮官能化的POSS。公司将POSS嵌入到重氮酮有机化合物中以促进光刻胶的热不稳相关性性和测力特性,借助重氮酮官能团在紫外光灯照光下发文件生Wolff重排,合成一家羧基基团,才能优化了可溶性高，溶于水的度。炼制途径如右图如下图所示。CDEOPE POSS经深红外光谱光揭晓后,不须后烘，就就可以荣获甄别比率0.7 μm的图像

POSS体现了平衡的纳米级笼形结构设计,需用作.光致抗蚀剂的怎强文件。包含POSS格局的光刻胶极具很好的热动态平衡性、空间和格局动态平衡性及显著的抗等化合物蚀刻使用性能等优缺点,因而,POSS渗透型的聚合反应物的材料在光刻胶邻域中享有特好的APP发展方向。

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八苯基笼状聚倍半硅氧烷

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八异丁基笼状聚倍半硅氧烷 Octaisobutyl POSS

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七十七氟癸基笼状聚倍半硅氧烷poss

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八辛基笼状聚倍半硅氧烷

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七十二烷基笼状聚倍半硅氧烷

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八改性环氧树脂环己基乙基笼状聚倍半硅氧

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