腐蚀镁（MgO）多晶硅基片使用在多条pet塑料膜技术应用区域中。如用做打造方法磁学pet塑料膜、半导体材料pet塑料膜、磁学pet塑料膜和气温超导pet塑料膜等。致使MgO多晶硅在红外光光波的相对介电常数和消耗的资金都有大有小，且能得出大绿地面积的基片（厚度2"及更强），故是目前财产化的首要气温超导pet塑料膜多晶硅基片最为。适用做打造方法可移动无线通讯系统必备的气温超导红外光滤波器等器材。

包括特点参数表

发育工艺：弧熔法

结晶体结构的：万立方

晶格常数p;a=4.130Å 

沸点（℃）:2800

饱和度:99.95%

溶解度（g/cm3）:3.58

洛氏硬度:5.5（mohs）

热收缩指数公式（/℃）:11.2x10-6

结晶体解理面<100>

光学元件通过:>90%（200~400nm），>98%（500~1000nm）

导热系数:ε=9.65

尺寸规格:10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20，

壁厚:0.5mm，1.0mm

增加光泽:单侧或正反两面

晶向:<001>±0.5º

晶面定项精确:±0.5°

外缘定位定位精度:2°（异常需要电动车续航1°已内）

斜切晶片:可按某些需要量，制作加工边侧认知的晶面按某些角度看支持角（支持角角1°－45°）的晶片

主要的优点

 在MgO单晶硅体在徽波光波的表面电阻率和耗率都较小，且能达到大规模的基片（的直径2英吋及更具），因而是到现阶段产业发展规划化的关键高温环境超导塑料薄膜单晶硅体基片之1。

主耍种类

适用于做磁学塑料塑料pe膜、半导塑料塑料pe膜、光学玻璃塑料塑料pe膜和高温环境超导塑料塑料pe膜等,也快速可用于制作而成走动联系机器需用的温度过高超导徽波滤波器等电子元器件。